特用化学材料厂新应材12月23日将举办上柜前事迹发布会，并将以竞价拍卖搭配公开申购款式配售首次上柜前现款增资股票，展望2025年1月中旬挂牌上柜，董事长詹文雄暗意，跟着2纳米将在2025下半年量产，新应材的“洗边剂”和“底部抗反射层”已打入2纳米，成为最大运营动能。

詹文雄暗意，新应材缔造自2003年，以面板及半导体光学组件光阻材料自主研发与量产实绩为基础，2018年积极转型参加半导体先进制程，并聚焦在良率要津的微影（Lithography）特化材料征战，主力居品为半导体先进制程光阻相近的名义改质剂（Rinse），为微影制程良率要津材料。

詹文雄指出，新应材现在已是台湾惟一在半导体微影制程，从原料合成、纯化到配方自主想象，并抓续扩多数产鸿沟的特化材料厂商，过去将抓续朝纳米级微影特化材料发展，包含行将到来的2纳米，以及过去1.4纳米制程的要津材料，可有用进步先进微影制程末端利用的良率。

詹文雄共享，半导体特化材料征战及考据时刻长，新应材领有四好像津竞争上风，包括一、从配方征战进取集成自建原料合成才调；二、创建原土材料供应链战术定约；三、快速恢复及高学习弧线；四、优异的品性管控及自主想象制程时刻，已霸占与外洋材料大厂竞争的有益位置。

产能打算方面，詹文雄指出，现在是龙潭厂作念材料征战、高雄厂一期负责纯化及合成、台南厂作念配方，而扩建的“高雄厂二期”展望本年底完工，展望2025年得回考据后，2026岁首将可认真量产，届时总产能将可知足2纳米量产后最大需求。

詹文雄强调，新应材过去将抓续参加半导体微影制程特化材料征战时刻，守望提供客户高品性且种种的居品，现在除以光阻相近特化材料为发展基础外，已得手征战DUV光阻，可利用半导体微影制程及光学组件制程，有望成为原土第一家半导体光阻供应商。

新应材现在本钱额为8.22亿元，2023年净利为3亿1,837万元，每股盈余（EPS）3.91元；而2024年前三季净利为6亿2,979万元，年增133%，其中半导体营收占比已逾越78%，并抓续增长。

（首图起原：科技新报）